多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐 參考價：面議
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統組成。可與準分子激光器...
雙溫區管式爐 參考價：面議
雙溫區管式爐系列是通過CE認證的，其Z高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個溫區的控溫程序使爐管內溫場形成一溫度梯度。兩個溫區分別由兩個獨立的溫控系統來控制，...
小型真空管式爐 參考價：面議
小型真空管式爐是一款通過CE認證的小型高溫管式爐，其爐管采用的是高純氧化鋁剛玉管，加熱元件為硅碳棒。儀器本身帶有兩個真密封法蘭（法蘭上已安裝機械壓力表和不銹鋼截...
1100℃小型高溫高壓管式爐--OTF-1200X-HP-30A 參考價：面議
OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高溫高壓管式爐，其爐管法蘭上安裝有高壓電磁閥和壓力傳感器，所以當管內氣壓高于設定值時，電磁閥會自動打開排氣，使管內氣...
雙溫區立式高溫高壓爐--OTF-1200X-VTHP 參考價：面議
OTF-1200X-VTHPΦ60是一款雙溫區立式高溫高壓爐，爐管采用鎳基合金鋼管制作，具有較高的蠕變強度和抗氧化性。爐管可承受的Z高溫度為1100℃（...
1200℃雙溫立式爐-OTF-1200X-4-VT-II 參考價：面議
OTF-1200X-4-VT-II是通過CE認證的雙溫區立式管式爐，其爐管直徑可制作為100mm,適合于對樣品在真空或氣氛保護環境下進行吊燒和淬火。爐體下端安裝...
顆粒懸浮立式管式爐--OTF-1200X-S-FB 參考價：面議
OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式爐，專門針對粉末表面沉積的CVD實驗，爐管為高純石英管，爐管內部嵌有一多孔石英板，石英板的孔徑為5-15um.粉...
4英寸真空立式淬火爐--OTF-1200X-4-VTQ 參考價：面議
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材...
小型超高溫2000°C管式爐-GSL-2000X-25 參考價：面議
GSL-2000X-25是一款小型的高溫管式爐，其腔體內部加熱區域為25mmI.Dx150mm,溫度可以達到1900℃,加熱元件采用特殊的鎢絲加熱，.此款設備特...
1600℃雙溫區回轉爐--GSL-1600X-R60-II 參考價：面議
GSL-1600X-R60-II是一款高溫雙溫區回轉爐。此款設備專門設計對粉體在高溫狀態下，進行均勻的燒結。
1200℃單溫區可傾斜旋轉爐--OTF-1200X-4-R 參考價：面議
OTF-1200X-4-R 是一款單溫區旋轉管式爐，為煅燒無機化合物獲得較好的*性而設計。特別對鋰離子電池負極材料的制備效果*，可提高導電性。或者應用在粉體材料...
1200°C迷你型快速加熱冷卻爐 參考價：面議
OTF-1200X-50-SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置外徑50x 1000mm石英管，工作溫度Z高達1200°C。爐底安裝一對滑軌，可滑動。加熱和冷卻...
小型1000℃RTP爐 參考價：面議
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4" 石英管和真空法蘭， 它是專為半導體或太陽能電池基片（Z大達3“）的退火而設計，采用10K...
5英寸近距離蒸發鍍膜爐（CSS）OTF-1200X-RTP-II-5 參考價：面議
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS（Close Spaced Su...
1100℃高壓爐-OTF-1200X-HP-55 參考價：面議
OTF-1200X-HP-55是一款通過CE認證的開啟式管式爐，其爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，Z高壓力高達20MPa，Z高溫度可達11...
12升1700℃高溫氫氣爐 參考價：面議
12升1700℃高溫氫氣爐是一款通過CE認證的高溫氫氣爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環境或惰性氣體環境進行燒結或是退火，其Z高溫度可高達1700℃。KSL-1...
帶有光學窗口的高溫高壓爐--OTF-1200X-HP-III-W 參考價：面議
OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，可承受的Z高溫度為1100℃。兩端法蘭上都安裝有石英窗口，可允許...
真空熱壓爐--OTF-1200X-VHP4 參考價：面議
OTF-1200X-VHP4開啟式立式爐，標配dia4"石英管真空密封，20T電動壓力機。是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5噸壓力下可鍵合多層基片...
氣體可流動高溫高壓管式爐--OTF-1200X80-HPV-III-GF 參考價：面議
OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高溫高壓管式爐，爐體擁有三個溫區。儀器中配有氣體控制柜，可使爐管內的氣壓在升降溫過程中保持恒定，特別是對于氧化...
雙管滑動快速加熱冷卻爐-OTF-1200X-4-C4LVS 參考價：面議
OTF-1200X-4-C4LVS 雙管爐是 一個特殊的雙管CVD系統,是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通...
單管滑動快速加熱冷卻爐-OTF-1200X-80SL 參考價：面議
單管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-80SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置dia3"x55" 石英管，工作溫度Z高達1200°C。爐底安裝一...
小型1000℃RTP爐-OTF-1200X-4-RTP 參考價：面議
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4“ 石英管和真空法蘭， 它是專為半導體或太陽能電池基片（Z大達3“）的退火而設計，采用10K...
1200℃雙溫區可傾斜旋轉爐--OTF-1200X-4-R-Ⅱ 參考價：面議
OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通過CE認證的雙溫區可旋轉管式爐，此款設備專門針對于材料的混合燒結，特別適用于鋰離子電池材料的混合燒結，如 LiFePO4...
6單溫區CVD真空管式爐 參考價：面議
GSL-1100X-6-S 是一款爐管內徑為6“ 的真空管式爐 , 它可以在Z大5“的基片上生長多種薄膜（在不同氣氛下）. 該爐的Z高工作溫度為 1100...
10